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滿足半導(dǎo)體集成電路，電力電子器件，光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積Si O2、Si 3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝。 CVD系統(tǒng)性能特點(diǎn)：
結(jié)構(gòu)形式：1—4管臥式熱壁型
硅片規(guī)格：2—8英寸硅片(或125×125mm、156×156mm方片)
溫度范圍：300～1100℃
恒溫區(qū)長(zhǎng)度及精度：200mm—1000mm(±1℃／24h)
淀積薄膜均勻性： 片內(nèi)±5％      片間±5％      批間±5％
沉積膜厚度：600～15000A
系統(tǒng)極限真空度：優(yōu)于1Pa
工作壓力范圍：20～133Pa閉環(huán)控制
控制方式：工業(yè)微機(jī)
送料裝置：懸臂推拉舟、軟著陸系統(tǒng)
淀積薄膜分類(lèi)：Si 3N4、Si02、PSG、Pply-Si膜
真空泵：羅茨泵、機(jī)械泵
工藝氣路：5路氣／管。VCR接口
40KFIz脈寬調(diào)制AE高頻電源
裝片量：200片／舟

詳情：

規(guī)格參數(shù)

  • 行業(yè)分類(lèi)：

    機(jī)械及行業(yè)設(shè)備/電子產(chǎn)品制造設(shè)備/電子電器生產(chǎn)線

  • 產(chǎn)品類(lèi)別：

  • 品　　牌：

    福潤(rùn)德

  • 規(guī)格型號(hào)：

  • 庫(kù)　　存：

  • 生 產(chǎn) 商：

    青島福潤(rùn)德微電子設(shè)備有限公司

  • 產(chǎn)　　地：

    中國(guó)山東省青島市

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