濺射鍍膜基本原理:充氬(Ar)氣的真空條件下,使氬氣進(jìn)行輝光放電,這時(shí)氬(Ar)原子電離成氬離子(Ar),氬離子在電場(chǎng)力的作用下,加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材,靶材會(huì)被濺射出來而沉積到工件表面。濺射鍍膜中的入射離子,一般采用輝光放電獲得,在l0-2Pa~10Pa范圍,所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中,易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞,使運(yùn)動(dòng)方向隨機(jī),沉積的膜易于均勻。


詳情:

規(guī)格參數(shù)

  • 行業(yè)分類:

    機(jī)械及行業(yè)設(shè)備/涂裝設(shè)備/電鍍?cè)O(shè)備

  • 產(chǎn)品類別:

  • 品  牌:

    Hongfeng

  • 規(guī)格型號(hào):

    SP-100

  • 庫  存:

    0

  • 生 產(chǎn) 商:

    湘潭市宏鋒機(jī)械設(shè)備制造廠

  • 產(chǎn)  地:

    中國(guó)湖南省湘潭市

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